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l    鋼研納克擁有 35 年電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗。

l    數(shù)十項 ICP-OES 檢測標準的起草單位。

l    電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品標準 GB/T36244-2018 起草單位。

l    Plasma 3000 作為一款高性能的非順序掃描型多元素分析儀器，高光通量和紫外傳輸效率，搭配快速進樣裝置，盡可能縮短分析時間，165nm~950nm 的光譜分析范圍也能輕松應對低含量分析的苛刻應用，適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

l    不管是高效率的生產(chǎn)企業(yè)，還是科學前沿的科研實驗室，都能為其提供專業(yè)的解決方案。

分析性能

檢出限：亞ppb-ppb

短期穩(wěn)定性：RSD≤0.5%（500 x LOD）

長期穩(wěn)定性：RSD≤1.0%（500 x LOD)

震蕩頻率：27.12MHz 功率穩(wěn)定性：≤0.1% 頻率穩(wěn)定性：≤0.01%

輸出功率：500W~1600W

氣路：冷卻氣、輔助氣、載氣三路氣體均使用高精度質(zhì)量流量計控制，控制精度 0.01L/min

儀器規(guī)格

尺寸：106*67*75cm（寬*深*高）

重量：180kg

光學系統(tǒng)

分析譜線范圍：165nm~950nm

分辨率：0.007nm@200nm

溫度控制：38℃±0.1℃，溫度可設(shè)置

CCD 像素數(shù)量：1024x1024

像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實驗室濕度環(huán)境：相對濕度 20~80%RH

氬氣純度：不小于 99.995%

排風：不小于 400立方米/小時或風速＞5米/秒，風量/風速可調(diào)

電源：220V±10% 單相；25A； 50~60Hz

l    挑戰(zhàn)一切復雜基體，穩(wěn)定可靠的垂直等離子體設(shè)計，舍棄繁雜的稀釋步驟，將 ICP-OES 元素分析的檢出限做到更低。

l    光柵和棱鏡的位置在檢測過程中保持不變，氟化鈣棱鏡擁有高紫外透過率，對于需要在光譜紫外區(qū)實現(xiàn)較高靈敏度的汞、銻和鉛等元素的苛刻應用，都可以滿足相應法規(guī)和產(chǎn)品標準的嚴格要求。

l    快速進樣系統(tǒng)，搭配軸向觀測、徑向觀測和雙向觀測多種模式，近 70000條可選擇的譜線，為生產(chǎn)提質(zhì)增效和科研探索提供了更多可能。

l    更科學易用的分析軟件，同時提供深度定制的高級服務，為每一個客戶的個性化需求提供更專業(yè)的解決方案。

l    等離子體觀測方式：雙向觀測。

l    矩管可靈活拆裝，自動定位。